睿動態|華睿投資完成理想萬里暉A輪數千萬元投資,深度布局能源產業!

發布時間:2019-05-24 瀏覽次數:339次

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文 | 華睿投資


       今日,華睿投資完成理想萬里暉數千萬元投資。上海理想萬里暉薄膜設備有限公司主營泛半導體領域和半導體領域高端PECVD(等離子增強化學氣象沉積)裝備(該產品是集成電路、光伏、LED等產品的制造工藝中最不可或缺的關鍵環節),團隊致力于為光伏、半導體和OLED顯示行業提供性能更先進、價格更低廉的高端制造裝備,其量產型異質結電池用PECVD設備打破國際廠商的壟斷,填補國內空白。

       公司創始人陳金元博士、錢學煜博士于上世紀90年代與尹志堯博士同為美國應用材料公司核心技術高管,于2004年回國聯合創立中微半導體,曾任中微半導體目前最主要的兩大產品序列——刻蝕設備與MOCVD設備的核心技術團隊成員,后于2009年創立理想能源。2013年理想能源PECVD事業部拆分,陳金元博士、錢學煜博士聯合胡宏奎博士創立上海理想萬里暉薄膜設備有限公司,團隊主要成員來自全球知名半導體裝備制造企業,專業齊全、經驗豐富、長于創新、精于管理,累計承??萍疾?63、上海市戰略新興重大產業項目等6項科研項目,申請超過50項國內外專利。

       理想萬里暉的量產型異質結電池用PECVD設備打破國際廠商的壟斷,是國內第一臺達標的量產型異質結電池用PECVD設備。其優勢包括:

       1. 首創U型疊層HIT用PECVD設備,疊層設計共用真空、控制、電氣系統及外腔系統,相比于本公司第一代產品,產能翻倍;U型設計有效利用客戶生產場地面積,便于后期自動化設備的匹配;

       2. 設計全自動化運行;

       3. 產能高,年產能可達100MW/年;

       4. 射頻等離子體匹配系統具有獨創性,等離子體穩定時間<0.5秒,射頻反射率< 2%;

       5. 薄膜厚度不均勻性≤3%,Voc不均勻度≤1%;

       6. 生產的電池片良率>99%;

       7. 設備開機率>90%。

       本次融資后,理想萬里暉將繼續致力于前沿高端光伏設備的研發,并在現有基礎上延伸產業鏈,開發大面積石墨烯和集成電路半導體領域用PECVD設備。

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